
原神正机之神散兵位于须弥地区的离渡谷的秘境处,开启条件需要完成魔神任务第三章第五幕“虚空鼓动,劫火高扬”。正机之神的雷属性抗性非常高,因此我们尽量不携带雷属性的角色前往攻打,具体攻略见正文详解。
1、 正机之神散兵位置
正机之神散兵位于须弥地区的离渡谷的秘境处,具体位置如图所示:
2、正机之神散兵机制解读

正机之神散兵有两个阶段,第一个阶段两个小能量球可充满能量,二阶段需要4个小能量球即可充满能量。
(1)一阶段
BOSS场地有6个元素印记,分别是1个火元素,可以清除地面上的霜寒状态;1个冰元素能清除地面上的余火状态;1个风元素能产生上升气流,以躲避boss的部分攻击;1个水元素可以产生持续10秒的治疗效果;2个雷元素可以压制boss,期间再次激活将使其过载瘫痪。
(2)二阶段
二阶段同样拥有一阶段的6个元素印记,正机之神开局拥有护盾,而当正机之神的护盾被打掉则会释放“刹那生灭”技能,召唤出4个雷属性的机关,其中1个在地面,另外3个在空中,都会持续攻击我方角色,如果玩家没有能在30秒内打掉4个机关则BOSS会强制秒杀掉场上的我们所有角色。机关如果被打掉,则BOSS会进入30秒的瘫痪时间,玩家如果在这30秒没有杀死BOSS,BOSS则会进入没有护盾的本体,玩家可以直接攻击本体。
3、攻打正机之神阵容推荐
根据BOSS的机制我们应该要考虑到二阶段对空的角色,比如烟绯、纳西妲、神里绫华都可以攻击到半空中的机关,此外弓类角色自不在话下。因为BOSS的雷抗非常高,我们不建议带雷属性角色,因此我们可以考虑用钟离+宵宫+行秋+夜兰的阵容。
4、攻打正机之神攻略
(1)第一阶段正机之神攻打
第一阶段的正机之神攻击方式是比较笨的,并且攻击频次也不高,完全可以用合适的队伍强行击杀,但对于没有强力队伍的玩家就比较吃力,建议去利用6个元素印记机制来达到事半功倍的效果。我们应该重点利用6个元素印记及时对应场上各种不利于自生的BUFF进行清除,同时利用风元素印记实现躲避,而利用好两个雷元素印记可以让BOSS瘫痪,更加容易击杀。我们应该在BOSS释放技能后快速吃掉产生的2个小球,并快速击杀已经瘫痪的BOSS。
(2)第二阶段正机之神攻打
我们需要耐心BOSS丢完技能,利用四叶草快速捡到能量给新式虚空终端充能,然后利用新式虚空终端攻打掉BOSS的护盾,待BOSS放出4个雷元素机关尽快打掉,然后利用BOSS瘫痪期间尽快输出打死BOSS。
总结,本次的正机之神相比以往的BOSS优化了机制,我们无法再跟以往一样站着无脑攻打了,需要去与本身的机制互动才能成功击杀,虽然难度有所提升但并不难。
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